來源:學術之家整理 2025-03-18 15:39:29
1.Web of Science平臺查詢:使用瀏覽器打開Web of Science的官方網站。請注意,該網站可能需要注冊登錄才能使用。在搜索框中輸入想要查詢的期刊名稱,進行搜索。在搜索結果中找到對應的期刊,點擊進入期刊詳情頁面,可以找到期刊的影響因子以及分區情況。Web of Science通常提供JCR分區信息,包括Q1、Q2、Q3、Q4四個分區。
2.中科院文獻情報中心查詢:使用瀏覽器打開中科院文獻情報中心的官方網站,或進入其期刊分區查詢頁面,在搜索結果中找到對應的期刊,查看其分區情況。中科院文獻情報中心的分區主要是根據期刊超越指數來劃分,與JCR分區有所不同,但同樣具有參考價值。
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《Plasma Chemistry And Plasma Processing》是一本專注于ENGINEERING, CHEMICAL領域的English學術期刊,創刊于1981年,由Springer US出版商出版,出版周期Quarterly。該刊發文范圍涵蓋ENGINEERING, CHEMICAL等領域,旨在及時、準確、全面地報道國內外ENGINEERING, CHEMICAL工作者在該領域的科學研究等工作中取得的經驗、科研成果、技術革新、學術動態等。
《Plasma Chemistry And Plasma Processing》中文名稱:《等離子化學和等離子處理》,ISSN號為0272-4324,E-ISSN號為1572-8986。Quarterly出版一期特刊,專注于工程:化工領域的關鍵概念,提供最新的研究概述。
本期刊發表有關等離子體化學和等離子體處理基礎和應用研究的原創論文,范圍包括從非熱等離子體到熱等離子體的處理等離子體、等離子體基礎研究以及特定等離子體應用的研究。此類應用包括但不限于等離子體催化、環境處理(包括液體和氣體處理)、等離子體的生物應用(包括等離子體醫學和農業)、表面改性和沉積、粉末和納米結構合成、能源應用(包括等離子體燃燒和重整)、資源回收、等離子體與電化學的耦合以及等離子體蝕刻。還征集等離子體化學動力學研究以及等離子體與表面的相互作用。投稿必須充分考慮等離子體的作用,例如相關的等離子體化學、等離子體物理或等離子體-表面相互作用;僅考慮使用等離子體處理的材料或物質的性質的稿件不在本期刊的范圍內。
該刊已被SCIE數據庫收錄,顯示了其學術影響力和認可度。此外,該期刊在中科院最新升級版分區表中,被歸類為工程技術大類3區,ENGINEERING, CHEMICAL工程:化工小類3區,進一步證明了其在學術界的地位。
從影響因子來看,《Plasma Chemistry And Plasma Processing》雜志的影響因子為:2.6 ,這表明該期刊所發表的論文在學術界具有廣泛的影響力和引用率。該期刊的CiteScore為5.9,SJR為0.48,SNIP為0.912,顯示出其在國際學術界的重要影響力。
近年中科院分區趨勢圖
近年IF值(影響因子)趨勢圖
影響因子:是美國科學信息研究所(ISI)的期刊引證報告(JCR)中的一項數據。指的是某一期刊的文章在特定年份或時期被引用的頻率,是衡量學術期刊影響力的一個重要指標。自1975年以來,每年定期發布于“期刊引證報告”(JCR)。
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