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首頁(yè) SCI期刊 工程技術(shù) 中科院2區(qū) 期刊介紹(非官網(wǎng))
Ieee Industrial Electronics Magazine雜志

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研究類文章占比:100.00%

Ieee Industrial Electronics Magazine

國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)簡(jiǎn)稱:IEEE IND ELECTRON M

人氣 862

《Ieee Industrial Electronics Magazine》是一本專注于ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC領(lǐng)域的English學(xué)術(shù)期刊,創(chuàng)刊于2007年,由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版商出版,出版周期Quarterly。該刊發(fā)文范圍涵蓋ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC等領(lǐng)域,旨在及時(shí)、準(zhǔn)確、全面地報(bào)道國(guó)內(nèi)外ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC工作者在該領(lǐng)域的科學(xué)研究等工作中取得的經(jīng)驗(yàn)、科研成果、技術(shù)革新、學(xué)術(shù)動(dòng)態(tài)等。該刊已被SCIE數(shù)據(jù)庫(kù)收錄,在中科院最新升級(jí)版分區(qū)表中,該刊分區(qū)信息為大類學(xué)科工程技術(shù)1區(qū),2023年影響因子為5.6。

  • 2區(qū)

    中科院分區(qū)
  • Q1

    JCR分區(qū)
  • SCIE

    期刊收錄
  • 是否預(yù)警
ISSN:1932-4529
出版地區(qū):UNITED STATES
出版周期:Quarterly
E-ISSN:1941-0115
創(chuàng)刊時(shí)間:2007
出版語(yǔ)言:English
是否OA開(kāi)放訪問(wèn):未開(kāi)放
研究方向:工程技術(shù)-工程:電子與電氣
影響因子:5.6
年發(fā)文量:38
出版商:Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
平均審稿速度: 12周,或約稿

Ieee Industrial Electronics Magazine期刊簡(jiǎn)介

IEEE Industrial Electronics Magazine (IEM) publishes peer-reviewed articles that present emerging trends and practices in industrial electronics product research and development, key insights, and tutorial surveys in the field of interest to the membership of the IEEE Industrial Electronics Society (IEEE/IES). IEM is limited to the scope of the IES which is given as theory and applications of electronics, controls, communications, instrumentation and computational intelligence to industrial and manufacturing systems and processes.

Ieee Industrial Electronics Magazine中科院分區(qū)

中科院分區(qū)2023年12月升級(jí)版

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 2區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 3區(qū)

中科院分區(qū)2022年12月升級(jí)版

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 1區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 1區(qū)

中科院分區(qū)2021年12月舊的升級(jí)版

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 1區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 2區(qū)

中科院分區(qū)2021年12月基礎(chǔ)版

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 1區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 1區(qū)

中科院分區(qū)2021年12月升級(jí)版

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 1區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 2區(qū)

中科院分區(qū)2020年12月舊的升級(jí)版

大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 1區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 1區(qū)

中科院分區(qū):中科院分區(qū)是SCI期刊分區(qū)的一種,是由中國(guó)科學(xué)院國(guó)家科學(xué)圖書(shū)館制定出來(lái)的分區(qū)。主要有兩個(gè)版本,即基礎(chǔ)版和升級(jí)版。2019年中國(guó)科學(xué)院文獻(xiàn)情報(bào)中心期刊分區(qū)表推出了升級(jí)版,實(shí)現(xiàn)了基礎(chǔ)版和升級(jí)版的并存過(guò)渡;升級(jí)版是對(duì)基礎(chǔ)版的延續(xù)和改進(jìn),將期刊由基礎(chǔ)版的13個(gè)學(xué)科擴(kuò)展至18個(gè),科研評(píng)價(jià)將更加明確。

JCR分區(qū)(2023-2024年最新版)

按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q1 53 / 352
85.1%
按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q1 47 / 354
86.86%

JCR分區(qū):JCR(Journal Citation Reports)由科睿唯安公司(前身為湯森路透)開(kāi)發(fā)。JCR沒(méi)有設(shè)置大類,只將期刊分為176個(gè)具體學(xué)科,也就是中科院分區(qū)中的小類學(xué)科?;诓煌瑢W(xué)科的當(dāng)年影響因子高低進(jìn)行排序,將期刊的數(shù)量均勻分為四個(gè)部分,Q1區(qū)代表學(xué)科分類中影響因子排名前25%的期刊,以此類推,Q2區(qū)為前25%-50%期刊,Q3區(qū)為前50%-75%期刊,Q4區(qū)為75%以后期刊。

CiteScore 指數(shù)(2024年最新版)

  • CiteScore:14
  • SJR:2.634
  • SNIP:2.523

CiteScore排名:

學(xué)科類別 分區(qū) 排名 百分位
大類:Engineering 小類:Electrical and Electronic Engineering Q1 42 / 797
94%
大類:Engineering 小類:Industrial and Manufacturing Engineering Q1 24 / 384
93%

CiteScore值計(jì)算方式:例如2024公布的CiteScore是將統(tǒng)計(jì)在 2020年-2023年間年所發(fā)表文章的引用次數(shù)除以在 2020年-2023年間所發(fā)表的發(fā)文總數(shù)。

CiteScore數(shù)據(jù)來(lái)源:是由全球著名學(xué)術(shù)出版商Elsevier(愛(ài)思唯爾)基于其Scopus數(shù)據(jù)庫(kù)推出的期刊評(píng)價(jià)指標(biāo)。CiteScore指數(shù)以四年區(qū)間為基準(zhǔn)來(lái)計(jì)算每本期刊的平均被引用次數(shù),并提供期刊領(lǐng)域排名、期刊分區(qū)的相關(guān)信息,它的作用是測(cè)量期刊的篇均影響力。

其它數(shù)據(jù)分析對(duì)比

近年中科院分區(qū)趨勢(shì)圖

近年IF值(影響因子)趨勢(shì)圖

影響因子:是美國(guó)科學(xué)信息研究所(ISI)的期刊引證報(bào)告(JCR)中的一項(xiàng)數(shù)據(jù)。指的是某一期刊的文章在特定年份或時(shí)期被引用的頻率,是衡量學(xué)術(shù)期刊影響力的一個(gè)重要指標(biāo)。自1975年以來(lái),每年定期發(fā)布于“期刊引證報(bào)告”(JCR)。

發(fā)文統(tǒng)計(jì)(統(tǒng)計(jì)區(qū)間:2023年-2024年)

機(jī)構(gòu)名稱 發(fā)文量
AALBORG UNIVERSITY 10
TSINGHUA UNIVERSITY 9
ABB 7
DELFT UNIVERSITY OF TECHNOLO... 6
UNIVERSITY OF PADUA 6
HARBIN INSTITUTE OF TECHNOLO... 4
ROYAL INSTITUTE OF TECHNOLOG... 4
UNIVERSITY OF KIEL 4
WARSAW UNIVERSITY OF TECHNOL... 4
BEIJING UNIVERSITY OF POSTS ... 3
國(guó)家/地區(qū) 發(fā)文量
CHINA MAINLAND 25
USA 25
GERMANY (FED REP GER) 12
Italy 12
Denmark 10
England 10
Sweden 9
Netherlands 7
Spain 6
Australia 5
文章引用名稱 引用次數(shù)
Reliability of Power Electro... 25
Reinforcement learning for H... 20
To Centralize or to Distribu... 19
Real-Time Monitoring and Con... 14
Blockchain Technologies for ... 13
Deep Learning and Reconfigur... 11
Voltage Stabilization A Crit... 10
New Trends in the Practical ... 9
Industrial Cyberphysical Sys... 9
Physical-Layer Security for ... 8
被引用期刊名稱 數(shù)量
IEEE T POWER ELECTR 118
IEEE ACCESS 105
ENERGIES 99
IEEE T IND ELECTRON 75
IEEE J EM SEL TOP P 50
P IEEE 50
IET POWER ELECTRON 47
IEEE T IND APPL 39
IEEE IND ELECTRON M 38
APPL SCI-BASEL 36
引用期刊名稱 數(shù)量
IEEE T IND ELECTRON 62
IEEE T POWER ELECTR 44
IEEE IND ELECTRON M 38
IEEE T IND INFORM 29
IEEE T POWER SYST 25
IEEE T SMART GRID 24
IEEE T IND APPL 18
IEEE T POWER DELIVER 16
IEEE ACCESS 11
P IEEE 11

投稿注意事項(xiàng)

文章要求:

1、建議稿件控制10頁(yè)以上,文章撰寫(xiě)語(yǔ)言為英語(yǔ);(單欄格式,單倍行距,內(nèi)容10號(hào)字體,文稿類型包含:原創(chuàng)研究(Original Research)、案例報(bào)告(Case Report)、文獻(xiàn)綜述(Literature Review)等;文件格式包含word、PDF、LaTeX等。

2、稿件重復(fù)率控制10%以內(nèi),論文務(wù)必保證原創(chuàng)性、圖標(biāo)、公式、引文等要素齊備,保證附屬資料的完整。已發(fā)表或引用過(guò)度的文章將不會(huì)被出版和檢索,禁止一稿多投,拒絕抄襲、機(jī)械性的稿件。

3、稿件必須有較好的英語(yǔ)表達(dá)水平,有圖,有表,有公式,有數(shù)據(jù)或設(shè)計(jì),有算法(方案,模型),實(shí)驗(yàn),仿真等;參考文獻(xiàn)控制25條以上,參考文獻(xiàn)引用一半以上控制在近5年以內(nèi)。

圖片和圖表要求:

1、建議使用TIFF、EPS、JPEG格式 ,TIFF格式 使用LZW壓縮。

2、文件大小最大不超過(guò)20MB,不要以單個(gè)文件的形式上傳數(shù)據(jù)。

3、彩色圖片的分辨率≥300dpi;黑白圖片的分辨率在≥500dpi;line art圖片類型的分辨率≥1000dpi;色彩模式建議采用RGB,除非期刊注明要CMYK。

4、線條不要細(xì)于0.25pt,也不能太粗,超過(guò)1.5pt,過(guò)細(xì)或過(guò)粗都影響美觀。

5、表格一般和manuscrript放置在一個(gè)word文檔里部分期刊 需要單獨(dú)上傳表格。

作者信息:

1、包括作者姓名、最高學(xué)位,作者單位(精確到部門),郵箱,地址,郵編,關(guān)鍵詞,內(nèi)容,總結(jié),項(xiàng)目基金,參考文獻(xiàn),作者相片+簡(jiǎn)介(一定要確保作者信息準(zhǔn)確無(wú)誤,提交稿件之后這部分不能再作改動(dòng))。

更多征稿細(xì)則請(qǐng)查閱雜志社征稿要求。本站專注期刊咨詢服務(wù)十年,確保SCI檢索,稿件信息安全保密,合乎學(xué)術(shù)規(guī)范不成功不收費(fèi),詳情請(qǐng)咨詢客服

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