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首頁 SCI Ieee Electron Device Letters雜志 雜志問答

《Ieee Electron Device Letters》雜志的收稿方向是什么?

來源:學術之家整理 2025-03-18 15:36:49

《Ieee Electron Device Letters》的收稿方向主要集中在ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC領域,涵蓋該領域的全方面內容。

《Ieee Electron Device Letters》特點:

《Ieee Electron Device Letters》中文名稱:《IEEE 電子器件字母》,創刊于1980年,由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版商出版,出版周期Monthly。

IEEE Electron Device Letters 發表與電子和離子集成電路器件和互連的理論、建模、設計、性能和可靠性有關的原創性和重要貢獻,涉及絕緣體、金屬、有機材料、微等離子體、半導體、量子效應結構、真空器件和新興材料,應用于生物電子學、生物醫學電子學、計算、通信、顯示器、微機電學、成像、微執行器、納米電子學、光電子學、光伏、功率集成電路和微傳感器。

《Ieee Electron Device Letters》定位:

旨在及時、準確、全面地報道國內外ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC工作者在該領域的科學研究等工作中取得的經驗、科研成果、技術革新、學術動態等。

發文統計(統計區間:2023年-2024年)

機構名稱 發文量
CHINESE ACADEMY OF SCIE... 84
UNIVERSITY OF CALIFORNI... 70
XIDIAN UNIVERSITY 56
NATIONAL YANG MING CHIA... 49
HONG KONG UNIVERSITY OF... 48
PEKING UNIVERSITY 42
UNIVERSITY OF ELECTRONI... 42
INDIAN INSTITUTE OF TEC... 36
IMEC 35
NATIONAL SUN YAT SEN UN... 35
國家/地區 發文量
CHINA MAINLAND 577
USA 282
South Korea 174
Taiwan 123
Japan 65
England 60
India 49
Belgium 37
GERMANY (FED REP GER) 37
France 32
文章引用名稱 引用次數
Enhancement-Mode Ga2O3 Verti... 38
An Artificial Neuron Based o... 36
Recessed-Gate Enhancement-Mo... 28
Spin Logic Devices via Elect... 27
Current Aperture Vertical be... 27
beta-Ga2O3 Delta-Doped Field... 26
Vertical Ga2O3 Schottky Barr... 24
1.85 kV Breakdown Voltage in... 24
Vertical Ga(2)O(3 )Schottky ... 23
First Demonstration of a Log... 22
被引用期刊名稱 數量
IEEE T ELECTRON DEV 1587
IEEE ELECTR DEVICE L 1317
JPN J APPL PHYS 594
APPL PHYS LETT 460
IEEE J ELECTRON DEVI 445
APPL PHYS EXPRESS 366
SEMICOND SCI TECH 277
J APPL PHYS 268
SOLID STATE ELECTRON 257
ECS J SOLID STATE SC 249
引用期刊名稱 數量
IEEE ELECTR DEVICE L 1317
IEEE T ELECTRON DEV 865
APPL PHYS LETT 812
J APPL PHYS 318
ADV MATER 217
NANO LETT 150
ACS APPL MATER INTER 142
SCI REP-UK 138
NATURE 132
APPL PHYS EXPRESS 119

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