《Integrated Ferroelectrics》中文名稱：《集成鐵電體》，創(chuàng)刊于1992年，由Taylor and Francis Ltd.出版商出版，出版周期Monthly。

《集成鐵電體》為電子工程師和物理學(xué)家以及參與集成鐵電體設(shè)備研究、設(shè)計(jì)、開發(fā)、制造和利用的工藝和系統(tǒng)工程師、陶瓷學(xué)家和化學(xué)家提供了一個國際性的跨學(xué)科論壇。此類設(shè)備將鐵電薄膜和半導(dǎo)體集成電路芯片結(jié)合在一起。其結(jié)果是產(chǎn)生了一種新型電子設(shè)備，它將鐵電材料獨(dú)特的非易失性存儲器、熱電、壓電、光折變、抗輻射、聲學(xué)和/或介電特性與半導(dǎo)體集成電路技術(shù)的動態(tài)存儲器、邏輯和/或放大特性以及小型化和低成本優(yōu)勢相結(jié)合。

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文章要求：

1、建議稿件控制10頁以上，文章撰寫語言為英語；（單欄格式，單倍行距，內(nèi)容10號字體，文稿類型包含：原創(chuàng)研究(Original Research)、案例報(bào)告(Case Report)、文獻(xiàn)綜述(Literature Review)等；文件格式包含word、PDF、LaTeX等。

2、稿件重復(fù)率控制10%以內(nèi)，論文務(wù)必保證原創(chuàng)性、圖標(biāo)、公式、引文等要素齊備，保證附屬資料的完整。已發(fā)表或引用過度的文章將不會被出版和檢索，禁止一稿多投，拒絕抄襲、機(jī)械性的稿件。

3、稿件必須有較好的英語表達(dá)水平，有圖，有表，有公式，有數(shù)據(jù)或設(shè)計(jì)，有算法（方案，模型），實(shí)驗(yàn)，仿真等；參考文獻(xiàn)控制25條以上，參考文獻(xiàn)引用一半以上控制在近5年以內(nèi)。

圖片和圖表要求：

1、建議使用TIFF、EPS、JPEG格式 ，TIFF格式 使用LZW壓縮。

2、文件大小最大不超過20MB，不要以單個文件的形式上傳數(shù)據(jù)。

3、彩色圖片的分辨率≥300dpi；黑白圖片的分辨率在≥500dpi；line art圖片類型的分辨率≥1000dpi；色彩模式建議采用RGB，除非期刊注明要CMYK。

4、線條不要細(xì)于0.25pt,也不能太粗，超過1.5pt,過細(xì)或過粗都影響美觀。

5、表格一般和manuscrript放置在一個word文檔里部分期刊 需要單獨(dú)上傳表格。

作者信息：

1、包括作者姓名、最高學(xué)位，作者單位（精確到部門），郵箱，地址，郵編，關(guān)鍵詞，內(nèi)容，總結(jié)，項(xiàng)目基金，參考文獻(xiàn)，作者相片+簡介（一定要確保作者信息準(zhǔn)確無誤，提交稿件之后這部分不能再作改動）。

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